Bersaglio rotondo in titanio

Un target di rivestimento è una sorgente di sputtering spruzzata su un substrato per formare pellicole funzionali mediante sputtering magnetron o altri sistemi di rivestimento in condizioni di processo appropriate. Vale a dire, il materiale target è il materiale target del bombardamento di particelle di energia di carica ad alta velocità, utilizzato nelle armi laser ad alta energia, diverse densità di potenza, diverse forme d'onda di uscita, diverse lunghezze d'onda del laser e diverse interazioni del materiale target, produrranno diversi effetti mortali e dannosi.

La produzione di target per sputtering in titanio include la preparazione della polvere di materia prima, il preriscaldamento, la pressatura a caldo, la lavorazione e il trattamento superficiale. La preparazione delle materie prime è la chiave per garantire la qualità dei target per sputtering in titanio. Il preriscaldamento e la pressatura a caldo sono fasi di processo importanti per la produzione di target per sputtering in titanio, attraverso le quali si ottengono materiali uniformi e densi per garantire le proprietà fisiche e chimiche dei target. La lavorazione include il taglio, la formatura e la lucidatura. Il trattamento superficiale include la pulizia, la passivazione, l'imballaggio, ecc.

Dotato di un processo avanzato, che ha una durata più lunga. Grazie alle sue elevate prestazioni, il bersaglio rotondo in titanio svolge un ruolo importante nei dispositivi di separazione dei semiconduttori, nei display a schermo piatto, nelle pellicole degli elettrodi di stoccaggio, nel rivestimento dei pezzi lavorati, nell'industria del rivestimento del vetro, ecc.

Il bersaglio rotondo in titanio ha un'ampia gamma di utilizzi grazie all'ampio band gap, alla bassa costante dielettrica e alla stabilità della temperatura. Il film sottile è preparato principalmente tramite sputtering magnetron, in cui il materiale bersaglio è un'importante materia prima di base nel processo di rivestimento mediante sputtering. Dotato di un'eccellente tecnologia di spruzzatura al plasma supersonica, ha un'elevata temperatura della sorgente di calore e un'atmosfera di aria inerte. La distanza di spruzzatura è piccola. Le particelle volano nel getto di plasma ad alta velocità, hanno meno probabilità di essere ossidate nel mezzo, con vantaggi per la spruzzatura di polvere di titanio facilmente ossidabile.

Elevato punto di fusione: il punto di fusione del titanio è 1668 gradi, pertanto il target in titanio offre eccellenti prestazioni ad alta temperatura.

Buona resistenza alla corrosione: il titanio ha una buona resistenza alla corrosione e può resistere alla corrosione di acidi, alcali e altre sostanze chimiche, quindi può essere utilizzato nella galvanica, nell'elettrolisi, nel rivestimento sotto vuoto e in altri settori.

Buona stabilità: il titanio è più stabile dal punto di vista chimico e può mantenere prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura, alta pressione e gas inerti, quindi può essere utilizzato per preparare alcuni materiali in condizioni di alta temperatura, alta pressione e gas inerti.

Buona conduttività elettrica: il bersaglio in titanio è un buon conduttore elettrico, quindi può essere utilizzato per preparare componenti elettronici, celle fotovoltaiche, dispositivi microelettronici, ecc. Applicazione: separazione di semiconduttori, materiali di rivestimento di pellicole, rivestimento di elettrodi di stoccaggio, rivestimento per sputtering, rivestimento superficiale, occhiali, elettronica, optoelettronica, tecnologia dell'informazione, chimica, medicina e aerospaziale.

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